
完全不导电的陶瓷样品,在不喷金的情况话,采用低电压高分辨成像技术,可清晰观察到其表面的纳米台阶状结构。
Tips
陶瓷通常具有硬度高、导电性差(多数陶瓷)、结构致密或多孔等特点,针对陶瓷样品的特性,测试的侧重点在于如何获得干净的、真实的、具有良好对比度的表面/断面信息,同时要小心样品制备对表面的破坏。
1. 样品制备:难点在于”硬”和”脆”
陶瓷材料硬度高、脆性大,制备的关键在于获得一个平整、无应力的观察面。
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块状陶瓷:
- 观察表面: 如果是直接观察烧结表面或原始表面,通常用乙醇超声清洗去除表面浮尘即可。注意: 超声时间不宜过长,防止引入微裂纹或使晶界受损。
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观察断面(最常用): 为了观察陶瓷的内部晶粒形貌、晶界、气孔分布,通常需要进行断口分析。
- 方法: 在样品上预先用小刀划一个浅槽,然后用外力(如锤子敲击或三点弯曲)沿槽口将样品折断。
- 要点: 务必获得新鲜的、未受污染的断面。手触摸过的断面会有油脂污染,影响观察,此时需用丙酮或酒精进行短时清洗。
- 观察抛光面: 如果需要观察气孔率、相分布或进行能谱面分析,需要对样品进行镶嵌、研磨和抛光。抛光后的样品需要热腐蚀或化学腐蚀以显露晶界。
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粉末状陶瓷:
- 这与纳米花粉末的制备方法一致:取少量粉末超声分散在乙醇中,滴在硅片或导电胶上,干燥后吹去浮粉。
- 注意: 如果是易团聚的纳米陶瓷粉,分散是关键。
2. 导电性处理:荷电效应的抑制
绝大多数陶瓷(如氧化铝、氧化锆、氮化硅等)都是绝缘体或高阻半导体,在电子束轰击下极易产生荷电效应(图像过亮、出现条纹、异常跳动)。
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必须镀膜: 除非你的电镜有低真空模式,否则常规高真空SEM观察陶瓷必须喷金或喷碳。
- 喷金/铂: 适用于形貌观察。由于陶瓷表面通常比较致密,喷金时要确保样品台旋转倾斜,使凹凸不平的断面或表面都能镀上连续导电层,否则凹陷处会因电荷积累而显得漆黑一片。
- 喷碳: 适用于后续要做能谱分析的样品。因为金的峰(Mα)会与硫(S)、氯(Cl)等元素的峰重叠,且碳膜对X射线的吸收较小,定量更准。
- 低真空模式: 如果电镜有低真空或环境扫描模式,可以不镀膜直接观察。利用气体分子中和电荷,对陶瓷这种硬质绝缘体非常友好,还能保留样品原始状态,方便后续清洗或处理。
3. 成像参数:追求”景深”与”清晰度”
陶瓷的断口通常非常粗糙,有起伏的晶粒和深孔。
- 大工作距离: 为了获得更大的景深(让高低不平的区域都能看清楚),建议将工作距离适当调大(例如10-15 mm)。
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加速电压:
- 高电压(15-20 kV): 能获得更好的极限分辨率,适合观察晶粒内部的精细结构或进行高倍率观察。但过高的电压可能导致电子束穿透晶粒边界,使图像看起来有点”透”。
- 低电压(5-10 kV): 能够更好地反映表面细节,突出晶粒的立体感,且能有效减轻绝缘样品的荷电效应。对于未镀膜或镀膜较薄的样品,低电压优势明显。
- 探针电流: 对于抛光腐蚀后的样品,需要较大的束流以获得更好的背散射电子信号(用于区分不同相);而对于粗糙断面,适中的束流配合二次电子探测器即可。
4. 能谱分析:注意成分准确性
如果需要对陶瓷进行能谱点分析或面分布:
- 平整度要求: 定量能谱分析强烈建议在抛光后的平面上进行。粗糙的断口表面会导致X射线被遮挡或产生不规则吸收,造成定量结果偏差很大。
- 镀碳: 如前述,进行精确的定量分析时,喷碳优于喷金。
- 元素确认: 陶瓷常含有轻元素(如氧、氮、碳),这些元素的X射线产额低,容易被吸收。在分析时需要注意选择合适的工作电压,并采用标样或标准数据库进行校正。
总结
陶瓷SEM测试的核心是 “一个中心,两个基本点” :
- 一个中心: 获得新鲜、干净、无污染的观察面(断面/抛光面)。
- 基本点1: 解决导电性问题(喷金/碳或低真空)。
- 基本点2: 合理利用景深和电压来展现陶瓷晶粒的立体形貌。

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